Le Japon a annoncé mardi qu’il accordait 1,2 milliard de dollars à la société américaine de semi-conducteurs Micron pour construire une usine dans l’ouest du Japon. Photo d’archives par Alex Plavevski/EPA-EFE
Le gouvernement japonais a annoncé mardi qu’il accorderait 1,2 milliard de dollars au fabricant américain de semi-conducteurs Micron Technology pour l’aider à construire une usine à Hiroshima, dans l’ouest du Japon.
Micron, basée aux États-Unis, souhaite fabriquer des semi-conducteurs de mémoire de pointe dans sa nouvelle usine d’ici 2026. Le ministère japonais de l’Industrie a déclaré que l’investissement dans l’usine contribuerait à stimuler la production nationale de semi-conducteurs et à améliorer la sécurité économique du pays.
Micron a déclaré qu’à son tour, il prévoyait d’investir 3,33 milliards de dollars dans ses travaux au Japon au cours des prochaines années et qu’il serait le premier fabricant de puces à introduire des machines de lithographie ultraviolette extrême, leur permettant de produire des semi-conducteurs avancés au Japon.
Le Japon avait précédemment annoncé qu’il accorderait 3,17 milliards de dollars à Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. pour construire une usine dans la préfecture de Kumamoto, dans le sud-ouest du Japon, et qu’il accorderait 620 millions de dollars de subventions au fabricant de puces local Kioxia Corp.
Le ministre de l’Économie, du Commerce et de l’Industrie, Yasutoshi Nishimura, a déclaré qu’il était important que le Japon réalise ces investissements dès le début pour stimuler l’activité économique future.
L’année dernière, Micron a annoncé la construction d’une usine de fabrication de semi-conducteurs de 500 millions de dollars à New York, qui serait la plus grande usine de fabrication de semi-conducteurs aux États-Unis.
La Chine a interdit en mai aux entreprises travaillant dans son secteur national de sécurité de l’information d’acheter des produits fabriqués par Micron, invoquant les risques de sécurité posés par la collaboration avec l’entreprise américaine.
